Электронный каталог


 

Choice of metadata Электронный каталог ДВФУ

Page 1, Results: 3

Report on unfulfilled requests: 0

621.382.049.77.002(075.8)
Ч-591

Чижевич, Людмила Анатольевна.
    Технологические процессы изготовления микросхем : учебное пособие / Л. А. Чижевич, Е. Л. Гамаюнов ; Дальневосточный политехнический институт ; Дальневосточный политехнический институт (Владивосток). - Владивосток : [б. и.], 1986. - 79 с. : ил. - Библиогр. : с. 78-79

УДК

Кл.слова (ненормированные):
микросхемы тонкопленочные -- микросхемы полупроводниковые -- микросхемы интегральные -- диэлектрические пленки -- термовакуумное испарение -- ионно-плазменное распыление -- окисление термохимическое -- окисление электролитическое
Доп.точки доступа:
Гамаюнов, Евгений Леонидович
Дальневосточный политехнический институт (Владивосток)

Экземпляры всего: 2
Книгохранение (1), Абонемент 402 (1)
Свободны: Книгохранение (1), Абонемент 402 (1)

Чижевич, Людмила Анатольевна. Технологические процессы изготовления микросхем [Текст] : учебное пособие / Л. А. Чижевич, Е. Л. Гамаюнов ; Дальневосточный политехнический институт, 1986. - 79 с. с.

1.

Чижевич, Людмила Анатольевна. Технологические процессы изготовления микросхем [Текст] : учебное пособие / Л. А. Чижевич, Е. Л. Гамаюнов ; Дальневосточный политехнический институт, 1986. - 79 с. с.


621.382.049.77.002(075.8)
Ч-591

Чижевич, Людмила Анатольевна.
    Технологические процессы изготовления микросхем : учебное пособие / Л. А. Чижевич, Е. Л. Гамаюнов ; Дальневосточный политехнический институт ; Дальневосточный политехнический институт (Владивосток). - Владивосток : [б. и.], 1986. - 79 с. : ил. - Библиогр. : с. 78-79

УДК

Кл.слова (ненормированные):
микросхемы тонкопленочные -- микросхемы полупроводниковые -- микросхемы интегральные -- диэлектрические пленки -- термовакуумное испарение -- ионно-плазменное распыление -- окисление термохимическое -- окисление электролитическое
Доп.точки доступа:
Гамаюнов, Евгений Леонидович
Дальневосточный политехнический институт (Владивосток)

Экземпляры всего: 2
Книгохранение (1), Абонемент 402 (1)
Свободны: Книгохранение (1), Абонемент 402 (1)



    Теллуроид кадмия в пленках системы теллур-кадмий, сформированной ультрадисперсными частицами [Текст] / Ю. Ж. Тулеушев [и др.]. // 7 nnas. Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 8.

Кл.слова (ненормированные):
кадмий -- теллуроид кадмия -- кадмий в пленках -- ультрадисперсные частицы -- CdTe -- ионно-плазменное распыление -- покрытие ультрадисперсными частицами
Доп.точки доступа:
Тулеушев, Ю. Ж.
Володин, В. Н.
Мигунова, А. А.
Лисицын, В. Н.

Теллуроид кадмия в пленках системы теллур-кадмий, сформированной ультрадисперсными частицами [Текст] / Ю. Ж. Тулеушев [и др.]. - С. 67-71. с. // Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 8.

2.

Теллуроид кадмия в пленках системы теллур-кадмий, сформированной ультрадисперсными частицами [Текст] / Ю. Ж. Тулеушев [и др.]. - С. 67-71. с. // Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 8.




    Теллуроид кадмия в пленках системы теллур-кадмий, сформированной ультрадисперсными частицами [Текст] / Ю. Ж. Тулеушев [и др.]. // 7 nnas. Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 8.

Кл.слова (ненормированные):
кадмий -- теллуроид кадмия -- кадмий в пленках -- ультрадисперсные частицы -- CdTe -- ионно-плазменное распыление -- покрытие ультрадисперсными частицами
Доп.точки доступа:
Тулеушев, Ю. Ж.
Володин, В. Н.
Мигунова, А. А.
Лисицын, В. Н.


Шумилов, А. С.
    Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении [Текст] / А. С. Шумилов, И. И. Амиров. // 7 nnas. Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 7.

Кл.слова (ненормированные):
ионное распыление -- низкоэнергетическое ионное распыление -- ионно-плазменное распыление -- кремневые канавки -- профиль кремнеевых канавок -- моделирование профиля кремнеевых канавок
Доп.точки доступа:
Амиров, И. И.

Шумилов, А. С. Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении [Текст] / А. С. Шумилов, И. И. Амиров. - С. 112-118. с. // Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 7.

3.

Шумилов, А. С. Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении [Текст] / А. С. Шумилов, И. И. Амиров. - С. 112-118. с. // Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 7.



Шумилов, А. С.
    Моделирование морфологии поверхности при низкоэнергетическом ионном распылении [Текст] / А. С. Шумилов, И. И. Амиров. // 7 nnas. Журнал технической физики. - Санкт-Петербург : Наука,. - 2015. - Т. 85, вып. 7.

Кл.слова (ненормированные):
ионное распыление -- низкоэнергетическое ионное распыление -- ионно-плазменное распыление -- кремневые канавки -- профиль кремнеевых канавок -- моделирование профиля кремнеевых канавок
Доп.точки доступа:
Амиров, И. И.

Page 1, Results: 3

 

All acquisitions for 
Or select a month