Перейти к содержимому 
База данных: ЭБС IPR BOOKS
Страница 1, Результатов: 1
Отмеченные записи: 0
1.
Подробнее
Киреев, В. Ю.
Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография – процессы и оборудование : Учебно-справочное руководство / Киреев В. Ю. - Долгопрудный : Издательский Дом «Интеллект», 2016. - 327 с. . - ISBN 978-5-91559-215-4
Книга не входит в Премиум-версию IPR SMART.
ББК 32.85
Кл.слова (ненормированные):
интегральная схема -- интегральный прибор -- микроэлектроника -- нанолитография -- нанотехнология -- фотолитография
Аннотация: В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 «Нанотехнология в электронике», 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника», 222900 «Нанотехнология и микросистемная техника», 210600 «Нанотехнология», 210100 «Электронное машиностроение», а также для инженеров и научных работников.
Киреев, В. Ю.
Нанотехнологии в микроэлектронике. Нанолитография – процессы и оборудование : Учебно-справочное руководство / Киреев В. Ю. - Долгопрудный : Издательский Дом «Интеллект», 2016. - 327 с. . - ISBN 978-5-91559-215-4
Книга не входит в Премиум-версию IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
интегральная схема -- интегральный прибор -- микроэлектроника -- нанолитография -- нанотехнология -- фотолитография
Аннотация: В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 «Нанотехнология в электронике», 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника», 222900 «Нанотехнология и микросистемная техника», 210600 «Нанотехнология», 210100 «Электронное машиностроение», а также для инженеров и научных работников.
Страница 1, Результатов: 1