Исследование слоистых структур Si-SiO& dn 2; и Si-SiO& dn 2;-полимер методом сканирующей туннельной микроскопии как пример туннельно-зондовой нанотехнологии

 

QR-код документа

Оценок: 0



    Исследование слоистых структур Si-SiO& dn 2; и Si-SiO& dn 2;-полимер методом сканирующей туннельной микроскопии как пример туннельно-зондовой нанотехнологии // Нанотехнологии. - N 3 (2009), С. 54-64

УДК
539.19
ББК 22.36

Рубрики: Физика

   Молекулярная физика в целом

Кл.слова (ненормированные):
туннельно-зондовые нанотехнологии -- Si-SiO2-полимеры -- микроскопия -- слоистые структуры -- электроны -- нанотехнологии -- модификация
Аннотация: Исследование процессов модификации поверхности в структуре Si-SiO2-полимера.

Авторизуйтесь для получения дополнительных услуг

Похожие издания по классификации

Экспериментальное и расчетное исследования особенностей течения с отрывом потока в дозвуковых диффузорах
Класс дифференциально-инвариантных решений подмодели осесимметричных течений идеального газа/Потяков, В. С.
Водяной монолит и каменная река/Руденко, Борис.
Исследование течения в осесимметричном и плоском расширяющихся каналах с предотрывным пограничным слоем на его стенках/Королев, Г. Л.
История концепций молекулярной нанотехнологии